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在半導體制造邁向更小節點（如5nm、3nm）的進程中，激光修整金屬線技術已成為提升芯片良率、實現功能定制化及降低制造成本的關鍵后道工藝。它利用高能量激光束對晶圓上的金屬互連層進行非接觸式精密加工，在微米甚至納米尺度上“改寫”電路功能，是芯片...
Thetametrisis膜厚測量儀用于氧化釔（Y?O?）涂層厚度測量。它可快速準確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來看看用Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）涂層厚度的具體情況。Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）的案例分析：氧化釔（Y?O?）是一種非常有前景抗等離子涂層材料，且在集成電路中特征尺寸的持續減小應用在化學機械拋光后的高度平整工藝用作化學機械平面化（CMP）的磨料，具有獷泛的應用范圍。氧...
硅片厚度測量儀是采用紅外干涉技術的一款測量儀器。它能夠精確測量硅片厚度和測量TTV總厚度變化，也能實時測量超薄晶圓厚度（掩膜過程中的晶圓），硅片厚度測試儀非常適合晶圓的研磨、蝕刻、沉淀等厚度測量應用。硅片厚度測量儀具有突出優勢，諸多材料例如Si、GaAs、InP、SiC、玻璃、石英以及其他聚合物在紅外光束下都是透明的，非常容易測量，標準的測量空間分辨率可達50微米，更小的測量點也可以做到。目前，儀器可廣泛用于MEMS、晶圓、電子器件、膜厚、激光打標雕刻等工序或器件的測量。該硅...
電容式位移傳感器基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對的被測物體。如果有穩定交流電通過傳感器，輸出交流電的電壓會與傳感器到被測物體之間的距離成正比關系，從而可以通過測量電壓的變化得到距離信息。電容位移傳感器是一種非接觸電容式原理的精密測量儀器，具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨特點外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優點。實際應用當中電容式傳感器可以實現近乎的線性測量。但是，電容傳感器要求探...
顯微鏡秒變光刻機！--顯微鏡LED曝光單元電子顯微鏡和光刻機，兩個看上去風馬牛不相及的東西，是如何結合到一起的？我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M，能令顯微鏡秒變光刻機！該設備是一種具有高性價比的曝光裝置，其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分，而照相機則固定在目鏡部分。可以將專用程序產生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。＜特征＞?顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設備。?使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將分辨率為幾μ...
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:微米級定位精度自動化薄膜厚度測繪系統介紹FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動薄膜厚度測繪系統，用于全自動圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測量。電動X-Y載物臺提供適用尺寸200mmx200mm毫米的行程,通過真空固定在載臺上時進行精確測量。可依測量厚度和波長范圍應用需求可在在200-1700nm光譜范圍內提供各種光學配置.應用o大學&研究實驗室o半導體（氧化物、氮化物、Si、抗蝕劑等）oMEMS器件（光刻...